Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
Ergebnis der Suche nach: per="Dahlhaus," AND per="Peter" AND Catalog=dnb
Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1318046335 |
Titel | (Me 5 C 5) SiH 3 and (Me 5 C 5) 2 SiH 2 as precursors for low‐temperature remote plasma‐enhanced CVD of thin Si 3 N 4 and SiO 2 films |
Person(en) |
Dahlhaus, Jürgen (Verfasser) Jutzi, Peter (Verfasser) Frenck, Hubert‐Joachim (Verfasser) Kulisch, Wilhelm (Verfasser) |
Umfang/Format | Online-Ressource (pdf) |
Persistent Identifier |
URN: urn:nbn:de:101:1-2024020205161711919735 DOI: 10.1002/adma.19930050510 |
URL | https://doi.org/10.1002/adma.19930050510 |
Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 29.10.2004 |
Sprache(n) | Englisch (eng) |
Beziehungen | Enthalten in: Advanced materials (Bd. 5, 2004, Nr. 5: 377-380. 4 S.) |
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