Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
Ergebnis der Suche nach: idn=1310021759
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1310021759 |
| Titel | Nanostructured Thin Films of Organic–Organometallic Block Copolymers: One‐Step Lithography with Poly (ferrocenylsilanes) by Reactive Ion Etching |
| Person(en) |
Lammertink, R. G. H. (Verfasser) Hempenius, M. A. (Verfasser) van den Enk, J. E. (Verfasser) Chan, V. Z.‐H. (Verfasser) Thomas, E. L. (Verfasser) Vancso, G. J. (Verfasser) |
| Umfang/Format | Online-Ressource (pdf) |
| Persistent Identifier |
URN: urn:nbn:de:101:1-2023111605244475820964 DOI: 10.1002/(SICI)1521-4095(200001)12:2<98::AID-ADMA98>3.0.CO;2-5 |
| URL | https://doi.org/10.1002/(SICI)1521-4095(200001)12:2<98::AID-ADMA98>3.0.CO;2-5 |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 29.12.1999 |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Beziehungen | Enthalten in: Advanced materials (Bd. 12, 1999, Nr. 2: 98-103. 6 S.) |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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