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Link zu diesem Datensatz https://d-nb.info/1328379671
Titel Effect of oxygen vacancy concentration on the resistive random access memory characteristics of NiOx (x = 1, 0.97, 0.94) thin films / by Minsoo Kim, Jong Yeog Son
Person(en) Kim, Minsoo (Verfasser)
Son, Jong Yeog (Verfasser)
Organisation(en) SpringerLink (Online service) (Sonstige)
Umfang/Format 1 Online-Ressource.
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:101:1-2405052141480.212838356691
DOI: 10.1007/s10853-024-09439-1
URL https://doi.org/10.1007/s10853-024-09439-1
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 2024
DDC-Notation 530.4175 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation)
Sprache(n) Englisch (eng)
Beziehungen Enthalten in: Journal of materials science (Bd. 59, 16.2.2024, Nr. 7, date:2.2024: 2988-2997)
Sachgruppe(n) 530 Physik

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