Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
Ergebnis der Suche nach: idn=1328459179
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1328459179 |
| Titel | Development of core technologies on EUV mask and resist for sub-20-nm half pitch generation |
| Person(en) |
Inoue, Soichi (Verfasser) Amano, Tsuyoshi (Verfasser) Itani, Toshiro (Verfasser) Watanabe, Hidehiro (Verfasser) Mori, Ichiro (Verfasser) Watanabe, Takeo (Verfasser) Kinoshita, Hiroo (Verfasser) Miyai, Hiroki (Verfasser) Hatakeyama, Masahiro (Verfasser) |
| Umfang/Format | Online-Ressource |
| Persistent Identifier |
URN: urn:nbn:de:101:1-2405061618390.658947089038 DOI: 10.1515/aot-2012-0029 |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 08.09.2012 |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Beziehungen | Enthalten in: Advanced Optical Technologies (Bd. 1, 2012, Nr. 4: 269-278) |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |

