Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
Ergebnis der Suche nach: idn=1328471993
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1328471993 |
| Titel | Micro-optics and lithography simulation are key enabling technologies for shadow printing lithography in mask aligners |
| Person(en) |
Voelkel, Reinhard (Verfasser) Vogler, Uwe (Verfasser) Bramati, Arianna (Verfasser) Noell, Wilfried (Verfasser) |
| Umfang/Format | Online-Ressource |
| Persistent Identifier |
URN: urn:nbn:de:101:1-2405061650108.393447292374 DOI: 10.1515/aot-2014-0065 |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 06.02.2015 |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Beziehungen | Enthalten in: Advanced Optical Technologies (Bd. 4, 2015, Nr. 1: 63-69. 7 S.) |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |

