Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
Ergebnis der Suche nach: idn=1328484211
Treffer 1 von 1
|
|
| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1328484211 |
| Titel | Resist material options for extreme ultraviolet lithography |
| Person(en) | Kozawa, Takahiro (Verfasser) |
| Umfang/Format | Online-Ressource |
| Persistent Identifier |
URN: urn:nbn:de:101:1-2405061702555.903978480625 DOI: 10.1515/aot-2015-0028 |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 08.07.2015 |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Beziehungen | Enthalten in: Advanced Optical Technologies (Bd. 4, 2015, Nr. 4: 311-317. 7 S.) |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
Treffer 1 von 1
Administration
