Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
Ergebnis der Suche nach: idn=1328625907
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1328625907 |
| Titel | Characterization and mitigation of 3D mask effects in extreme ultraviolet lithography |
| Person(en) |
Erdmann, Andreas (Verfasser) Xu, Dongbo (Verfasser) Evanschitzky, Peter (Verfasser) Philipsen, Vicky (Verfasser) Luong, Vu (Verfasser) Hendrickx, Eric (Verfasser) |
| Umfang/Format | Online-Ressource |
| Persistent Identifier |
URN: urn:nbn:de:101:1-2405071629348.386353584309 DOI: 10.1515/aot-2017-0019 |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 10.05.2017 |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Beziehungen | Enthalten in: Advanced Optical Technologies (Bd. 6, 2017, Nr. 3-4: 187-201. 15 S.) |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |

