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Titel Photoresists in extreme ultraviolet lithography (EUVL)
Person(en) De Simone, Danilo (Verfasser)
Vesters, Yannick (Verfasser)
Vandenberghe, Geert (Verfasser)
Umfang/Format Online-Ressource
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:101:1-2405071630076.176394129692
DOI: 10.1515/aot-2017-0021
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 19.05.2017
Sprache(n) Englisch (eng)
Beziehungen Enthalten in: Advanced Optical Technologies (Bd. 6, 2017, Nr. 3-4: 163-172. 10 S.)

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