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Link zu diesem Datensatz	https://d-nb.info/1328626032
Titel	Large area nanoimprint by substrate conformal imprint lithography (SCIL)
Person(en)	Verschuuren, Marc A. (Verfasser) Megens, Mischa (Verfasser) Ni, Yongfeng (Verfasser) van Sprang, Hans (Verfasser) Polman, Albert (Verfasser)
Umfang/Format	Online-Ressource
Persistent Identifier	URN: urn:nbn:de:101:1-2405071631147.949119222035 DOI: 10.1515/aot-2017-0022
Zeitliche Einordnung	Erscheinungsdatum: 08.06.2017
Sprache(n)	Englisch (eng)
Beziehungen	Enthalten in: Advanced Optical Technologies (Bd. 6, 2017, Nr. 3-4: 243-264. 22 S.)

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