Katalog der Deutschen Nationalbibliothek

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Titel Effect of bias potential and dimension on electrochemical migration of capacitors for implantable devices / by Shiyao Du, Feng Li, Flemming Bjerg Grumsen, Rajan Ambat, Ao Tang, Ying Li
Person(en) Du, Shiyao (Verfasser)
Li, Feng (Verfasser)
Grumsen, Flemming Bjerg (Verfasser)
Ambat, Rajan (Verfasser)
Tang, Ao (Verfasser)
Li, Ying (Verfasser)
Organisation(en) SpringerLink (Online service) (Sonstige)
Umfang/Format 1 Online-Ressource.
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:101:1-2405080922323.510027312440
DOI: 10.1038/s41529-024-00440-2
URL https://doi.org/10.1038/s41529-024-00440-2
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 2024
DDC-Notation 621.3815 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation)
Sprache(n) Englisch (eng)
Beziehungen Enthalten in: npj Materials degradation (Bd. 8, 4.3.2024, Nr. 1, date:12.2024: 1-9)
Sachgruppe(n) 621.3 Elektrotechnik, Elektronik

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