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Titel Application of Al2O3 Film for Stabilization of the Charge Properties of the SiO2/p-Si Interface / by A. S. Kim, N. A. Serko, P. E. Khakuashev, A. N. Kolky, S. Yu. Yurchuck
Person(en) Kim, A. S. (Verfasser)
Serko, N. A. (Verfasser)
Khakuashev, P. E. (Verfasser)
Kolky, A. N. (Verfasser)
Yurchuck, S. Yu (Verfasser)
Organisation(en) SpringerLink (Online service) (Sonstige)
Umfang/Format 1 Online-Ressource.
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:101:1-2405101104352.436304291904
DOI: 10.1134/S1063739723080012
URL https://doi.org/10.1134/S1063739723080012
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 2023
DDC-Notation 530.4175 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation)
Sprache(n) Englisch (eng)
Beziehungen Enthalten in: Russian microelectronics (Bd. 52, 5.3.2024, Nr. 8, date:12.2023: 835-841)
Sachgruppe(n) 530 Physik

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