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Titel Study of electrical and structural properties of boron doped polysilicon films with a low nitrogen content / by H. Bouridah, F. Mansour, R. Mahamdi, P. Temple-Boyer
Person(en) Bouridah, H. (Verfasser)
Mansour, F. (Verfasser)
Mahamdi, R. (Verfasser)
Temple-Boyer, P. (Verfasser)
Organisation(en) SpringerLink (Online service) (Sonstige)
Umfang/Format 1 Online-Ressource.
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:101:1-2405130826099.063205979225
DOI: 10.1007/s10853-005-0574-2
URL https://doi.org/10.1007/s10853-005-0574-2
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 2005
DDC-Notation 530.4175 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation)
Sprache(n) Englisch (eng)
Beziehungen Enthalten in: Journal of materials science (Bd. 40, Nr. 6, date:3.2005: 1405-1408)
Sachgruppe(n) 530 Physik

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