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Art des Inhalts Hochschulschrift
Titel STM- und XPS-Untersuchungen zum Reaktionsverhalten von TEOS auf Silicium / von Jürgen Spitzmüller
Person(en) Spitzmüller, Jürgen (Verfasser)
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 2000
Umfang/Format 1 CD-R ; 12 cm + Beil. ([2] S.)
Hochschulschrift Ulm, Univ., Diss., 2000
Anmerkungen Titel auf der Beil. - Dateiformate: doc, pdf, prn
Schlagwörter Silicium ; Kristallfläche ; Organosiloxane ; Ethoxygruppe ; Rastertunnelmikroskopie ; Röntgen-Photoelektronenspektroskopie
Sachgruppe(n) 30 Chemie ; 29 Physik, Astronomie

Frankfurt Signatur: H 2001 CR 121
Bereitstellung in Frankfurt
Leipzig Signatur: H 2001 CR 121
Bereitstellung in Leipzig




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