Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
Ergebnis der Suche nach: idn=04267316X
Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/gnd/4267316-1 |
Sachbegriff | PECVD-Verfahren |
Quelle | Lex. Elektronik Mikroelektronik unter Schichtabscheidung |
Synonyme |
Plasma Enhanced CVD-Verfahren PACVD-Verfahren Plasmaaktiviertes CVD-Verfahren |
Oberbegriffe |
CVD-Verfahren Plasmaabscheidung |
DDC-Notation | 671.735 |
Systematik | 31.9b Elektronik, Nachrichtentechnik ; 31.10 Verfahrenstechnik, Technische Chemie ; 31.8a Fertigungstechnik |
Andere Normdaten |
LCSH: Plasma-enhanced chemical vapor deposition RAMEAU: Dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma |
Untergeordnet |
1 Datensatz
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Thema in |
251 Publikationen
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Maschinell verknüpft mit |
15 Publikationen
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