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Link zu diesem Datensatz https://d-nb.info/1332179916
Titel Localized Epitaxial Growth of 402 V Breakdown Voltage Quasi‐Vertical GaN‐on‐Si p‐n Diode on 200 mm‐Diameter Wafers
Person(en) Kaltsounis, Thomas (Verfasser)
El Amrani, Mohammed (Verfasser)
Plaza Arguello, David (Verfasser)
El Rammouz, Hala (Verfasser)
Maurya, Vishwajeet (Verfasser)
Lafossas, Matthieu (Verfasser)
Torrengo, Simona (Verfasser)
Haas, Helge (Verfasser)
Mendizabal, Laurent (Verfasser)
Gueugnot, Alain (Verfasser)
Mariolle, Denis (Verfasser)
Jalabert, Thomas (Verfasser)
Buckley, Julien (Verfasser)
Cordier, Yvon (Verfasser)
Charles, Matthew (Verfasser)
Umfang/Format Online-Ressource (pdf)
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:101:1-2406081418103.244566244082
DOI: 10.1002/pssa.202400059
URL https://doi.org/10.1002/pssa.202400059
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 07.06.2024
Sprache(n) Englisch (eng)
Beziehungen Enthalten in: Physica status solidi / A / Applications and materials science (07.06.2024. 7 S.)

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