Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
Ergebnis der Suche nach: "110330889"
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/840905742 |
| Titel | Entwicklung und Untersuchung empfindlicher und prozesskompatibler Polymere für die Röntgenlithographie / von Frithjof Asmussen ; Hideto Sotobayashi ; Wolfram Schnabel. Bundesministerium für Forschung u. Technologie. [Durchführende Inst. Fritz-Haber-Inst. d. Max-Planck-Ges.] |
| Person(en) |
Asmussen, Frithjof (Verfasser) Sotobayashi, Hideto (Verfasser) Schnabel, Wolfram (Verfasser) |
| Verlag | Eggenstein-Leopoldshafen : Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik Karlsruhe |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 1983 |
| Umfang/Format | 59 S. : 20 Ill. u. graph. Darst. ; 30 cm |
| ISBN/Einband/Preis | kart. : DM 12.50 (zuzügl. Mehrwertsteuer) |
| Identifikationsnummern | Reportnummer: BMFT-FB-T 83-122 |
| Sprache(n) | Deutsch (ger) |
| Beziehungen | Technologische Forschung und Entwicklung, Elektronik |
| Anmerkungen |
Als Ms. gedr. - Literaturverz. S. 57 - 59 Status nach VGG: vergriffen |
| Schlagwörter | Röntgenlithographie ; Röntgenlack ; Synchrotronstrahlung ; Polymer |
| Sachgruppe(n) | 37 Elektrotechnik |
| Weiterführende Informationen | Inhaltsverzeichnis |
| Frankfurt |
Signatur: D 83b/5151
Bereitstellung in Frankfurt |
| Leipzig |
Signatur: SB 7078 - T,83,122
Bereitstellung in Leipzig |

