Katalog der Deutschen Nationalbibliothek

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Bücher
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Titel Entwicklung und Untersuchung empfindlicher und prozesskompatibler Polymere für die Röntgenlithographie / von Frithjof Asmussen ; Hideto Sotobayashi ; Wolfram Schnabel. Bundesministerium für Forschung u. Technologie. [Durchführende Inst. Fritz-Haber-Inst. d. Max-Planck-Ges.]
Person(en) Asmussen, Frithjof (Verfasser)
Sotobayashi, Hideto (Verfasser)
Schnabel, Wolfram (Verfasser)
Verlag Eggenstein-Leopoldshafen : Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik Karlsruhe
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 1983
Umfang/Format 59 S. : 20 Ill. u. graph. Darst. ; 30 cm
ISBN/Einband/Preis kart. : DM 12.50 (zuzügl. Mehrwertsteuer)
Identifikationsnummern Reportnummer: BMFT-FB-T 83-122
Sprache(n) Deutsch (ger)
Beziehungen Technologische Forschung und Entwicklung, Elektronik
Anmerkungen Als Ms. gedr. - Literaturverz. S. 57 - 59
Status nach VGG: vergriffen
Schlagwörter Röntgenlithographie ; Röntgenlack ; Synchrotronstrahlung ; Polymer
Sachgruppe(n) 37 Elektrotechnik
Weiterführende Informationen Inhaltsverzeichnis

Frankfurt Signatur: D 83b/5151
Bereitstellung in Frankfurt
Leipzig Signatur: SB 7078 - T,83,122
Bereitstellung in Leipzig




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