Katalog der Deutschen Nationalbibliothek

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Bücher
Link zu diesem Datensatz https://d-nb.info/820968307
Titel Silicon, chemical etching / ed.: J. Grabmaier. With contributions by R. B. Heimann ...
Person(en) Heimann, Robert B. (Verfasser)
Grabmaier, Josef G. (Herausgeber)
Verlag Berlin ; Heidelberg ; New York : Springer
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 1982
Umfang/Format 226 S. : Ill., graph. Darst. ; 25 cm
Andere Ausgabe(n) Erscheint auch als Online-Ausgabe: Silicon Chemical Etching
ISBN/Einband/Preis 978-3-540-11862-6 (Berlin, Heidelberg, New York) Pp. : DM 144.00
3-540-11862-4 (Berlin, Heidelberg, New York) Pp. : DM 144.00
978-0-387-11862-8 (New York, Heidelberg, Berlin) Pp.
0-387-11862-4 (New York, Heidelberg, Berlin) Pp.
Sprache(n) Englisch (eng)
Beziehungen Crystals ; Vol. 8
Anmerkungen Literaturangaben
Status nach VGG: lieferbar
Schlagwörter Einkristall ; Silizium ; Ätzen ; Dendritische Kristallisation ; Czochralski-Verfahren ; Kristallisation ; Silizium ; Kristall ; Ätzen (Werkstoffkunde) ; Czochalski-Verfahren ; Kristallzüchtung
Sachgruppe(n) 29 Physik, Astronomie
Weiterführende Informationen Inhaltsverzeichnis

Frankfurt Signatur: D 82b/9777
Bestand: [Dieses Werk gibt es inhaltsgleich auch in digitaler Form.]
Bereitstellung in Frankfurt
Leipzig Signatur: SA 27098-8
Bestand: [Dieses Werk gibt es inhaltsgleich auch in digitaler Form.]
Bereitstellung in Leipzig




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