Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1286029392 |
| Titel | Advances in Grayscale Lithography Modeling / Bassem Badawi ; Gutachter: Christoph Kutter, Alfred Kersch ; Akademischer Betreuer: Christoph Kutter ; Universität der Bundeswehr München, Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik |
| Person(en) |
Badawi, Bassem (Verfasser) Kutter, Christoph (Akademischer Betreuer) Kutter, Christoph (Gutachter) Kersch, Alfred (Gutachter) |
| Organisation(en) | Universität der Bundeswehr München, Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik |
| Verlag | Neubiberg : Universitätsbibliothek der Universität der Bundeswehr München |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2023 |
| Umfang/Format | Online-Ressource (pdf) |
| Hochschulschrift | Dissertation, Neubiberg, Universität der Bundeswehr München, 2023 |
| Persistent Identifier | URN: urn:nbn:de:bvb:706-9134 |
| URL | https://athene-forschung.unibw.de/144287 (Verlag) (kostenfrei zugänglich) |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Schlagwörter |
Fotolithografie, Halbleiertechnologie ; Grau ; Modellierung ; Algorithmus ; Sperrschicht-FET ; Simulation Photoresist* ; Nanometerbereich* ; Fotolithografie <Halbleitertechnologie>* ; Simulation* (*maschinell ermittelt) |
| DDC-Notation | 621.38153 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation) |
| Sachgruppe(n) | 621.3 Elektrotechnik, Elektronik |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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