Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
Ergebnis der Suche nach: "Arthur" and "Hoffmann"
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/122924591X |
| Titel | Highly Anisotropic Fluorine‐Based Plasma Etching of Ultralow Expansion Glass |
| Person(en) |
Weigel, Christoph (Verfasser) Phi, Hai Binh (Verfasser) Denissel, Felix Arthur (Verfasser) Hoffmann, Martin (Verfasser) Sinzinger, Stefan (Verfasser) Strehle, Steffen (Verfasser) |
| Umfang/Format | Online-Ressource (pdf) |
| Persistent Identifier |
URN: urn:nbn:de:101:1-2021031214030190120916 DOI: 10.1002/adem.202001336 |
| URL | https://doi.org/10.1002/adem.202001336 |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 11.03.2021 |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Beziehungen | Enthalten in: Advanced engineering materials (2021) |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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