Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/920958184 |
Titel | LPCVD silicon nitride and oxynitride films : material and apllications in integrated circuit technology / F. H. P. M. Habraken (ed.) |
Person(en) | Habraken, F. H. P. M. (Herausgeber) |
Verlag | Berlin ; Heidelberg ; New York ; London ; Paris ; Tokyo ; Hong Kong ; Barcelona ; Budapest : Springer |
Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 1991 |
Umfang/Format | X, 159 S. : Ill., graph. Darst. ; 25 cm |
Andere Ausgabe(n) | Erscheint auch als Online-Ausgabe: LPCVD Silicon Nitride and Oxynitride Films |
ISBN/Einband/Preis |
978-3-540-53954-4 (Berlin ...) kart. : DM 36.00 3-540-53954-9 (Berlin ...) kart. : DM 36.00 978-0-387-53954-6 (New York ...) kart. 0-387-53954-9 (New York ...) kart. |
Beziehungen | Research reports ESPRIT / Project 369 ; Vol. 1 |
Anmerkungen |
Literaturangaben Status nach VGG: lieferbar |
Schlagwörter | Siliciumoxinitride ; LPCVD-Verfahren ; Integrierte Schaltung |
Sachgruppe(n) | 37 Elektrotechnik ; 42 Technische Chemie, Lebensmitteltechnologie, Textiltechnik und andere Technologien |
Weiterführende Informationen | Inhaltsverzeichnis |
Frankfurt |
Signatur: D 92/23689 Bestand: [Dieses Werk gibt es inhaltsgleich auch in digitaler Form.] Bereitstellung in Frankfurt |
Leipzig |
Signatur: SA 37241-1 Bestand: [Dieses Werk gibt es inhaltsgleich auch in digitaler Form.] Bereitstellung in Leipzig |
