Katalog der Deutschen Nationalbibliothek

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Art des Inhalts Hochschulschrift
Titel The effect of Si and Y additives on the phase stability of Al2O3 thin films / Farwah Nahif
Person(en) Nahif, Farwah (Verfasser)
Verlag Aachen : Shaker
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 2014
Umfang/Format XIV, 92 S. : Ill., graph. Darst. ; 21 cm, 170 g
Andere Ausgabe(n) Erscheint auch als Online-Ausgabe: Nahif, Farwah: The effect of Si and Y additives on the phase stability of Al2O3 thin films
Hochschulschrift Zugl.: Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 2013
ISBN/Einband/Preis 978-3-8440-2495-1 kart. : EUR 45.80 (DE), EUR 45.80 (AT), sfr 57.25 (freier Pr.)
EAN 9783844024951
Sprache(n) Englisch (eng)
Beziehungen Materials chemistry dissertation ; No. 23
Schlagwörter Aluminiumoxide ; Dünne Schicht ; PVD-Verfahren ; Mikrostruktur ; Stabilität ; Silicium ; Yttrium ; Additiv
DDC-Notation 667.9 [DDC22ger]; 620.1404 [DDC22ger]
Sachgruppe(n) 660 Technische Chemie ; 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau
Weiterführende Informationen Inhaltsverzeichnis

Frankfurt Signatur: 2014 A 25311
Bestand: [Dieses Werk gibt es inhaltsgleich auch in digitaler Form.]
Bereitstellung in Frankfurt
Leipzig Signatur: 2014 A 39292
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