Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
Ergebnis der Suche nach: dcs=620.1*
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1045787000 |
| Art des Inhalts | Hochschulschrift |
| Titel | The effect of Si and Y additives on the phase stability of Al2O3 thin films / Farwah Nahif |
| Person(en) | Nahif, Farwah (Verfasser) |
| Verlag | Aachen : Shaker |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2014 |
| Umfang/Format | XIV, 92 S. : Ill., graph. Darst. ; 21 cm, 170 g |
| Andere Ausgabe(n) | Erscheint auch als Online-Ausgabe: Nahif, Farwah: The effect of Si and Y additives on the phase stability of Al2O3 thin films |
| Hochschulschrift | Zugl.: Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 2013 |
| ISBN/Einband/Preis | 978-3-8440-2495-1 kart. : EUR 45.80 (DE), EUR 45.80 (AT), sfr 57.25 (freier Pr.) |
| EAN | 9783844024951 |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Beziehungen | Materials chemistry dissertation ; No. 23 |
| Schlagwörter | Aluminiumoxide ; Dünne Schicht ; PVD-Verfahren ; Mikrostruktur ; Stabilität ; Silicium ; Yttrium ; Additiv |
| DDC-Notation | 667.9 [DDC22ger]; 620.1404 [DDC22ger] |
| Sachgruppe(n) | 660 Technische Chemie ; 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau |
| Weiterführende Informationen | Inhaltsverzeichnis |
| Frankfurt |
Signatur: 2014 A 25311 Bestand: [Dieses Werk gibt es inhaltsgleich auch in digitaler Form.] Bereitstellung in Frankfurt |
| Leipzig |
Signatur: 2014 A 39292 Bestand: [Dieses Werk gibt es inhaltsgleich auch in digitaler Form.] Bereitstellung in Leipzig |
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