Katalog der Deutschen Nationalbibliothek

Neuigkeiten Servicezeiten in Frankfurt am Main ab 1. Dezember 2025: Montag bis Freitag 9–18 Uhr und Samstag 10–16 Uhr
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Neuigkeiten 24. Dezember 2025 bis 1. Januar 2026: Die Deutsche Nationalbibliothek bleibt an beiden Standorten geschlossen. Bestellte Medien werden am 2. Januar 2026 bereitgestellt. // 24 December 2025 to 1 January 2026: The German National Library will be closed at both locations. Ordered media will be made available on 2 January 2026.
 
 

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Titel Gate Layout and Process Reliability Co‐Optimization in High‐Speed Vertical III–V Nanowire Metal‐Oxide‐Semiconductor Field‐Effect Transistor Technology
Person(en) Sandberg, Marcus E. (Verfasser)
Löfstrand, Anette (Verfasser)
Svensson, Johannes (Verfasser)
Fhager, Lars (Verfasser)
Umfang/Format Online-Ressource (pdf)
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:101:1-2502191308325.379847222640
DOI: 10.1002/pssa.202400690
URL https://doi.org/10.1002/pssa.202400690
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 18.02.2025
Sprache(n) Englisch (eng)
Beziehungen Enthalten in: Physica status solidi / A / Applications and materials science (18.02.2025. 6 S.)

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