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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/976561247 |
| Art des Inhalts | Hochschulschrift |
| Titel | Agent based diagnostic system for the defect analysis during chemical mechanical polishing (CMP) / Universität Stuttgart, IFF, Institut für Industrielle Fertigung und Fabrikbetrieb ... Akhauri Prakash Kumar |
| Person(en) | Kumar, Akhauri Prakash (Verfasser) |
| Organisation(en) | Universität Stuttgart. Institut für Industrielle Fertigung und Fabrikbetrieb (Herausgebendes Organ) |
| Verlag | Heimsheim : Jost-Jetter |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2005 |
| Umfang/Format | Online-Ressource, ca. 3,2 MB |
| Andere Ausgabe(n) | Erscheint auch als Druck-Ausgabe: Agent based diagnostic system for the defect analysis during chemical mechanical polishing (CMP) |
| Hochschulschrift | Zugl.: Stuttgart, Univ., Diss., 2005 |
| Persistent Identifier | URN: urn:nbn:de:bsz:93-opus-23777 |
| URL |
http://elib.uni-stuttgart.de/opus/volltexte/2005/2377/pdf/Diss_Kumar_hs.pdf (Verlag) http://elib.uni-stuttgart.de/opus/volltexte/2005/2377/ (Verlag) |
| ISBN/Einband/Preis |
978-3-936947-64-9 3-936947-64-3 |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Beziehungen | Fraunhofer-Institut für Produktionstechnik und Automatisierung: IPA-IAO-Forschung und Praxis ; Nr. 421 |
| Schlagwörter | Wafer ; Chemisches Polieren ; Prozessüberwachung ; Defekt ; Diagnosesystem ; Mehragentensystem |
| Sachgruppe(n) | 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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