Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
Ergebnis der Suche nach: swiRef=042609976
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/948635312 |
| Art des Inhalts | Hochschulschrift |
| Titel | Charakterisierung eines ECWR-Plasmas in Silan und dessen Anwendung zur Abscheidung von nc-Si:H-Schichten / Michael Scheib |
| Person(en) | Scheib, Michael (Verfasser) |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 1996 |
| Umfang/Format | 149 Bl. : Ill., graph. Darst. ; 30 cm |
| Hochschulschrift | Kaiserslautern, Univ., Diss., 1996 (Nicht für den Austausch) |
| Sprache(n) | Deutsch (ger) |
| Schlagwörter | Silicium ; Nanostrukturiertes Material ; Wasserstoff ; PECVD-Verfahren ; Silan ; Plasmadiagnostik |
| Sachgruppe(n) | 29 Physik, Astronomie |
| Weiterführende Informationen | Inhaltsverzeichnis |
| Frankfurt |
Signatur: H 1996 B 1295
Bereitstellung in Frankfurt |
| Leipzig |
Signatur: H 1996 B 1295
Bereitstellung in Leipzig |

