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Titel Effect of Treatment Conditions of Capacitor Structures Based on Porous Silicon and Ferroelectric on Their Dielectric Losses in the HF and Microwave Ranges / by O. V. Semenova, T. N. Patrusheva, V. A. Yuzova, K. V. Lemberg, M. Yu. Railko, S. A. Podorozhnyak, A. I. Khol’kin
Person(en) Semenova, O. V. (Verfasser)
Patrusheva, T. N. (Verfasser)
Yuzova, V. A. (Verfasser)
Lemberg, K. V. (Verfasser)
Railko, M. Yu (Verfasser)
Podorozhnyak, S. A. (Verfasser)
Khol’kin, A. I. (Verfasser)
Organisation(en) SpringerLink (Online service) (Sonstige)
Umfang/Format 1 Online-Ressource.
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:101:1-2024020512363055531163
DOI: 10.1134/S0040579523040255
URL https://doi.org/10.1134/S0040579523040255
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 2023
DDC-Notation 537.2 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation)
Sprache(n) Englisch (eng)
Beziehungen Enthalten in: Theoretical foundations of chemical engineering (Bd. 57, 17.11.2023, Nr. 4, date:8.2023: 628-632)
Sachgruppe(n) 530 Physik

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