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Art des Inhalts Hochschulschrift
Titel CVD growth of (001) and (111) 3C-SiC epilayers and their interface reactivity with praseodymium oxide dielectric layers / vorgelegt von Rakesh Sohal
Person(en) Sohal, Rakesh (Verfasser)
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 2006
Umfang/Format Online-Ressource, ca. 3,9 MB
Andere Ausgabe(n) Erscheint auch als Druck-Ausgabe: Sohal, Rakesh: CVD growth of (001) and (111) 3C-SiC epilayers and their interfacereactivity with praseodymium oxide dielectric layers
Hochschulschrift Cottbus, Univ., Diss., 2006
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:kobv:co1-opus-121
URL http://se6.kobv.de:8000/btu/volltexte/2006/12/pdf/Rakesh_PhDThesis.pdf (Verlag) (kostenfrei zugänglich)
http://se6.kobv.de:8000/btu/volltexte/2006/12/ (Verlag)
Sprache(n) Englisch (eng)
Schlagwörter Siliciumcarbid ; Kristallfläche ; Dielektrische Schicht ; CVD-Verfahren
DDC-Notation 530.4175 [DDC22ger]
Sachgruppe(n) 530 Physik

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