Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/127319733X |
Titel | Integrated low‐temperature process for the fabrication of amorphous Si nanoparticles embedded in Al 2 O 3 for non‐volatile memory application |
Person(en) |
Ilse, Klemens (Verfasser) Schneider, Thomas (Verfasser) Ziegler, Johannes (Verfasser) Sprafke, Alexander (Verfasser) Wehrspohn, Ralf B. (Verfasser) |
Umfang/Format | Online-Ressource (pdf) |
Persistent Identifier |
URN: urn:nbn:de:101:1-2022112006021041889475 DOI: 10.1002/pssa.201600064 |
URL | https://doi.org/10.1002/pssa.201600064 |
Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 23.04.2016 |
Sprache(n) | Englisch (eng) |
Beziehungen | Enthalten in: Physica status solidi / A / Applications and materials science (Bd. 213, 2016, Nr. 9: 2446-2451. 6 S.) |
Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
