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Titel Integrated low‐temperature process for the fabrication of amorphous Si nanoparticles embedded in Al 2 O 3 for non‐volatile memory application
Person(en) Ilse, Klemens (Verfasser)
Schneider, Thomas (Verfasser)
Ziegler, Johannes (Verfasser)
Sprafke, Alexander (Verfasser)
Wehrspohn, Ralf B. (Verfasser)
Umfang/Format Online-Ressource (pdf)
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:101:1-2022112006021041889475
DOI: 10.1002/pssa.201600064
URL https://doi.org/10.1002/pssa.201600064
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 23.04.2016
Sprache(n) Englisch (eng)
Beziehungen Enthalten in: Physica status solidi / A / Applications and materials science (Bd. 213, 2016, Nr. 9: 2446-2451. 6 S.)

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