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Link zu diesem Datensatz https://d-nb.info/975753460
Art des Inhalts Hochschulschrift
Titel Diffusion in stressed thin films = Diffusion in dünnen Schichten / Max-Planck-Institut für Metallforschung ... Vorgelegt von Jay Chakraborty
Person(en) Chakraborty, Jay (Verfasser)
Verlag Stuttgart : Max-Planck-Inst. für Metallforschung
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 2005
Umfang/Format Online-Ressource, ca. 29,9 MB
Andere Ausgabe(n) Erscheint auch als Druck-Ausgabe: Chakraborty, Jay: Diffusion in stressed thin films
Hochschulschrift Zugl.: Stuttgart, Univ., Diss., 2005
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:bsz:93-opus-23169
URL http://elib.uni-stuttgart.de/opus/volltexte/2005/2316/pdf/Chakraborty_thesis161_2005.pdf (Verlag)
http://elib.uni-stuttgart.de/opus/volltexte/2005/2316/ (Verlag)
Sprache(n) Englisch (eng)
Beziehungen Max-Planck-Institut für Metallforschung: Bericht ; Nr. 161
Schlagwörter Diffusionskoeffizient ; Interdiffusion ; Eigenspannung ; Röntgenbeugung ; Auger-Spektroskopie ; Kupfer ; Palladium
DDC-Notation 530.4175 [DDC22ger]
Sachgruppe(n) 530 Physik

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