Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1000186695 |
| Art des Inhalts | Hochschulschrift |
| Titel | Photo-resist stripping with DI/O3 in semiconductor device manufacturing : process chemistry and analytical aspects / by Mathias Guder |
| Person(en) | Guder, Mathias (Verfasser) |
| Ausgabe | [Online-Ausg.] |
| Sekundärausgabe | Online-Ausg. [2010]. Online-Ressource |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2009 |
| Umfang/Format | |
| Andere Ausgabe(n) | Erscheint auch als Druck-Ausgabe: Guder, Mathias: Photo-resist stripping with DI-O3 in semiconductor device manufacturing |
| Hochschulschrift | Frankfurt (Main), Univ., Diss., 2010 |
| Persistent Identifier | URN: urn:nbn:de:hebis:30-74467 |
| URL | http://publikationen.ub.uni-frankfurt.de/volltexte/2010/7446/ (Verlag) (kostenfrei zugänglich) |
| Sprache(n) | Deutsch (ger) |
| Schlagwörter | Photoresist ; Ozon ; Lithographie <Halbleitertechnologie> ; Chemische Analyse ; FT-IR-Spektroskopie ; FT-Raman-Spektroskopie ; Ultraviolettspektroskop ; Gedruckte Schaltung |
| DDC-Notation | 621.381531 [DDC22ger] |
| Sachgruppe(n) | 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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