Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/981888879 |
| Art des Inhalts | Hochschulschrift |
| Titel | Dreidimensionale Topographiesimulation der ionisierten Metallplasma-Abscheidung in der Halbleitertechnologie / vorgelegt von Siegbert Kistler |
| Person(en) | Kistler, Siegbert (Verfasser) |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2006 |
| Umfang/Format | III, 134 S. : Ill., graph. Darst. ; 21 cm |
| Andere Ausgabe(n) | Erscheint auch als Online-Ausgabe: Kistler, Siegbert: Dreidimensionale Topographiesimulation der ionisierten Metallplasma-Abscheidung in der Halbleitertechnologie |
| Hochschulschrift | Erlangen, Nürnberg, Univ., Diss., 2006 |
| Schlagwörter | Beschichten ; Computersimulation ; Metallisieren ; Winkelverteilung ; Abscheidung ; Hochfrequenzsputtern ; Sputtern ; Zerstäubung ; Dünnes Plasma ; Ho |
| DDC-Notation | 671.735 [DDC22ger] |
| Sachgruppe(n) | 670 Industrielle und handwerkliche Fertigung |
| Frankfurt |
Signatur: 2007 A 301 Bestand: [Dieses Werk gibt es inhaltsgleich auch in digitaler Form.] Bereitstellung in Frankfurt |
| Leipzig |
Signatur: 2006 A 108284 Bestand: [Dieses Werk gibt es inhaltsgleich auch in digitaler Form.] Bereitstellung in Leipzig |
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