Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/121482045X |
| Art des Inhalts | Hochschulschrift |
| Titel | Multiscale Simulation of Metallic Copper and Copper Oxide Atomic Layer Deposition from Cu Beta-diketonates / Xiao Hu ; Gutachter: Stefan E. Schulz, Johann W. Bartha, Simon D. Elliott ; Betreuer: Stefan E. Schulz |
| Person(en) |
Hu, Xiao (Verfasser) Schulz, Stefan E. (Akademischer Betreuer) Schulz, Stefan E. (Gutachter) Bartha, Johann W. (Gutachter) Elliott, Simon D. (Gutachter) |
| Verlag | Chemnitz : Universitätsverlag der Technischen Universität Chemnitz - Chemnitz : Technische Universität Chemnitz |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2018 |
| Umfang/Format | Online-Ressource |
| Andere Ausgabe(n) | Erscheint auch als: ISBN: 978-3-96100-053-1 |
| Hochschulschrift | Dissertation, Chemnitz, Technische Universität Chemnitz, 2017 |
| Persistent Identifier | URN: urn:nbn:de:bsz:ch1-qucosa2-215390 |
| URL | (kostenfrei zugänglich) |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Schlagwörter | Leiterbahn ; Atomlagenabscheidung ; Kupferoxide ; Kupfer ; Diketonate <beta> ; Ausgangsmaterial ; Oberflächenchemie ; Mehrskalenanalyse ; Simulation |
| DDC-Notation | 621.38150284 [DDC23ger] |
| Sachgruppe(n) | 621.3 Elektrotechnik, Elektronik ; 670 Industrielle und handwerkliche Fertigung ; 660 Technische Chemie |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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