Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/958263574 |
| Art des Inhalts | Hochschulschrift |
| Titel | Abscheidung und Aufwachsverhalten von Silicium bei CVD-Prozessen / von Matthias Fehrenbacher |
| Person(en) | Fehrenbacher, Matthias (Verfasser) |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 1999 |
| Umfang/Format | 1 CD-R ; 12 cm + Beil. ([1] Bl.) |
| Hochschulschrift | Ulm, Univ., Diss., 1999 |
| Anmerkungen | Titel auf der Beil. |
| Schlagwörter | Silicium ; CVD-Verfahren ; CD-ROM |
| Sachgruppe(n) | 30 Chemie ; 29 Physik, Astronomie |
| Frankfurt |
Signatur: H 1999 CR 78
Bereitstellung in Frankfurt |
| Leipzig |
Signatur: H 1999 CR 78
Bereitstellung in Leipzig |
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