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Art des Inhalts Hochschulschrift
Titel Structural analysis of HfO2 and HfSi2 ultra-thin films on Si(100) : . a photoelectron diffraction study / vorgelegt von Christian Rolf Flüchter
Person(en) Flüchter, Christian Rolf (Verfasser)
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 2008
Umfang/Format Online-Ressource, ca. 16,4 MB
Hochschulschrift Dortmund, Techn. Univ., Diss., 2008
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:hbz:290-2003/25779-3
Handle: 2003/25779
URL http://eldorado.tu-dortmund.de:8080/bitstream/2003/25779/1/Dissertation.pdf (Verlag) (kostenfrei zugänglich)
Sprache(n) Englisch (eng)
Sachgruppe(n) 530 Physik

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