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Titel Thermodynamic Stability of High-K Dielectric Metal Oxides ZrO2 and HfO2 in Contact with Si and SiO2 / by Maciej Gutowski, John E. Jaffe, Chun-Li Liu, Matt Stoker, Rama I. Hegde, Raghaw S. Rai, Philip J. Tobin
Person(en) Gutowski, Maciej (Verfasser)
Jaffe, John E. (Verfasser)
Liu, Chun-Li (Verfasser)
Stoker, Matt (Verfasser)
Hegde, Rama I. (Verfasser)
Rai, Raghaw S. (Verfasser)
Tobin, Philip J. (Verfasser)
Organisation(en) SpringerLink (Online service) (Sonstige)
Umfang/Format Online-Ressource : online resource.
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:101:1-2021020523032663510049
DOI: 10.1557/PROC-716-B3.2
URL https://doi.org/10.1557/PROC-716-B3.2
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 2002
DDC-Notation 537.2 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation)
Sprache(n) Englisch (eng)
Beziehungen Enthalten in: Materials Research Society: MRS online proceedings library (Bd. 716, 1.2.2011, Nr. 1, date:12.2001: 321-325)
Sachgruppe(n) 530 Physik

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