Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1387845764 |
| Titel | Lithography Alignment Technologies: A Comprehensive Review of Advances and Challenges |
| Person(en) |
Xu, Feifan (Verfasser) Zhang, Jin (Verfasser) Li, Weishi (Verfasser) Pan, Chengliang (Verfasser) Xia, Haojie (Verfasser) |
| Umfang/Format | Online-Ressource (pdf) |
| Persistent Identifier |
URN: urn:nbn:de:101:1-2601241308097.261000060182 DOI: 10.1002/lpor.202501998 |
| URL | https://doi.org/10.1002/lpor.202501998 |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 24.01.2026 |
| DDC-Notation | 535.2 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation) |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Beziehungen | Enthalten in: Laser & photonics reviews (24.01.2026. 46 S.) |
| Sachgruppe(n) | 530 Physik |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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