Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
Ergebnis der Suche nach: "Kiefer" and "Eva"
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1260951154 |
| Titel | Sensitive Photoresists for Rapid Multiphoton 3D Laser Micro‐ and Nanoprinting |
| Person(en) |
Kiefer, Pascal (Verfasser) Hahn, Vincent (Verfasser) Nardi, Martina (Verfasser) Yang, Liang (Verfasser) Blasco, Eva (Verfasser) Barner-Kowollik, Christopher (Verfasser) Wegener, Martin (Verfasser) |
| Umfang/Format | Online-Ressource (pdf) |
| Persistent Identifier |
URN: urn:nbn:de:101:1-2022062613465028080855 DOI: 10.1002/adom.202000895 |
| URL | https://doi.org/10.1002/adom.202000895 |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 26.08.2020 |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Beziehungen | Enthalten in: Advanced optical materials (Bd. 8, 2020, Nr. 19. 14 S.) |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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