Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1050620461 |
| Art des Inhalts | Hochschulschrift |
| Titel | The effect of Si and Y additives on the phase stability of Al2O3 thin films / Farwah Nahif |
| Person(en) | Nahif, Farwah (Verfasser) |
| Verlag | Aachen : Hochschulbibliothek der Rheinisch-Westfälischen Technischen Hochschule Aachen |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2014 |
| Umfang/Format | Online-Ressource |
| Hochschulschrift | Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 2013 |
| Persistent Identifier | URN: urn:nbn:de:hbz:82-opus-49278 |
| URL | http://darwin.bth.rwth-aachen.de/opus3/volltexte/2014/4927 (Verlag) (kostenfrei zugänglich) |
| ISBN/Einband/Preis | 978-384-40249-5-1 |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Beziehungen | Materials Chemistry Dissertation ; 2014/23 |
| Schlagwörter | Aluminiumoxide ; Dünne Schicht ; PVD-Verfahren ; Mikrostruktur ; Stabilität ; Silicium ; Yttrium ; Additiv |
| DDC-Notation | 667.9 [DDC22ger]; 620.1404 [DDC22ger] |
| Sachgruppe(n) | 660 Technische Chemie ; 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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