Katalog der Deutschen Nationalbibliothek

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Titel Quality and Growth Rate of Hot-wire Chemical Vapor Deposition Epitaxial Si Layers / by W. Teplin Charles, T. Martin Ina, M. Jones Kim, David Young, J. Romero Manuel, C. Reedy Robert, M. Branz Howard, Paul Stradins
Person(en) Charles, W. Teplin (Verfasser)
Ina, T. Martin (Verfasser)
Kim, M. Jones (Verfasser)
Young, David (Verfasser)
Manuel, J. Romero (Verfasser)
Robert, C. Reedy (Verfasser)
Howard, M. Branz (Verfasser)
Stradins, Paul (Verfasser)
Organisation(en) SpringerLink (Online service) (Sonstige)
Umfang/Format Online-Ressource : online resource.
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:101:1-2021030219174125944672
DOI: 10.1557/PROC-1066-A11-06
URL https://doi.org/10.1557/PROC-1066-A11-06
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 2008
DDC-Notation 530.4175 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation)
Sprache(n) Englisch (eng)
Beziehungen Enthalten in: Materials Research Society: MRS online proceedings library (Bd. 1066, 23.6.2008, Nr. 1, date:12.2007: 1-5)
Sachgruppe(n) 530 Physik

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