Katalog der Deutschen Nationalbibliothek

Neuigkeiten Servicezeiten in Frankfurt am Main ab 1. Dezember 2025: Montag bis Freitag 9–18 Uhr und Samstag 10–16 Uhr
Service hours in Frankfurt am Main from 1 December 2025: Monday to Friday 9:00-18:00 and Saturday 10:00-16:00
 
Neuigkeiten Wegen Wartungsarbeiten ist vom 12. bis 14. Januar 2026 der Museumslesesaal, sowie vom 14. bis 16. Januar 2026 der Musiklesesaal geschlossen. // Due to maintenance work the museum reading room will be closed from 12 to 14 January 2026 and the music reading room from 14 to 16 January 2026.
 
 

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Titel Plasma Etching of Multilayer SiO 2/Si 3 N 4 Alternating Stacks Using Capacitively Coupled Plasma‐Reactive Ion Etching
Person(en) Guo, Jingquan (Verfasser)
Fan, Yingjie (Verfasser)
Huang, Haiteng (Verfasser)
Wang, Ya (Verfasser)
Zhang, Yilin (Verfasser)
Chen, Zhuzhuoyue (Verfasser)
Zhang, Jingjing (Verfasser)
Yu, Lihui (Verfasser)
Ye, Shujun (Verfasser)
Umfang/Format Online-Ressource (pdf)
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:101:1-2601021306172.066143541326
DOI: 10.1002/pssa.202500820
URL https://doi.org/10.1002/pssa.202500820
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 01.01.2026
DDC-Notation 530.44 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation)
Sprache(n) Englisch (eng)
Beziehungen Enthalten in: Physica status solidi / A / Applications and materials science (Bd. 223, 2026, Nr. 1. 12 S.)
Sachgruppe(n) 530 Physik

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