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Titel Reaktive Abscheidung von SiOxNy-Schichten durch Puls-Magnetron-Sputtern / Jörn Christian Weber
Person(en) Weber, Jörn Christian (Verfasser)
Ausgabe 1. Auflage
Verlag München : Verlag Dr. Hut
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 2010
Umfang/Format Online-Ressource (pdf)
Andere Ausgabe(n) Erscheint auch als Druck-Ausgabe: Reaktive Abscheidung von SiOxNy-Schichten durch Puls-Magnetron-Sputtern
Hochschulschrift Dissertation, Technische Universität Dresden, 2010
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:101:1-2020112610373709559242
URL https://www.dr.hut-verlag.de/9783868534528.html (Verlag)
ISBN/Einband/Preis 978-3-86853-452-8
Sprache(n) Deutsch (ger)
Anmerkungen Vom Verlag als Druckwerk on demand und/oder als E-Book angeboten
Lizenzpflichtig
Schlagwörter Beschichten* ; Sputtern* ; Puls <Technik>* ; Magnetron* ; Betriebszustand* (*maschinell ermittelt)
DDC-Notation 671.73 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation)
Sachgruppe(n) 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau

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