Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
Ergebnis der Suche nach: dcs=621.3*
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1260762300 |
| Art des Inhalts | Hochschulschrift |
| Titel | Low-temperature silicon deposition by means of hot-wire chemical vapour deposition / Hunter John King |
| Person(en) | King, Hunter John (Verfasser) |
| Organisation(en) |
Fraunhofer IRB-Verlag (Verlag) Fraunhofer IST, Braunschweig (Herausgebendes Organ) |
| Verlag | Stuttgart : Fraunhofer Verlag |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: [2022] |
| Umfang/Format | xi, 96 Seiten : Illustrationen, Diagramme. ; 21 cm |
| Hochschulschrift | Dissertation, Technische Universität Carola-Wilhelmina zu Braunschweig, 2022 |
| ISBN/Einband/Preis |
978-3-8396-1820-2 Broschur : EUR 83.00 (DE), EUR 85.40 (AT), CHF 127.90 (freier Preis) 3-8396-1820-7 |
| Bestellnummer(n) | Bestellnummer: fhg-ist_57 |
| EAN | 9783839618202 |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Beziehungen | Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik: Berichte aus Forschung und Entwicklung ; vol. 047 |
| Schlagwörter | Silicium ; Cat-CVD-Verfahren ; NMOS-Schaltung |
| DDC-Notation | 667.9 [DDC23ger]; 621.3815 [DDC23ger] |
| Sachgruppe(n) | 660 Technische Chemie ; 621.3 Elektrotechnik, Elektronik |
| Weiterführende Informationen |
Inhaltstext Inhaltsverzeichnis |
| Frankfurt |
Signatur: 2022 AA 54565
Bereitstellung in Frankfurt |
| Leipzig |
Signatur: 2022 AA 50393
Bereitstellung in Leipzig |
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