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Art des Inhalts Hochschulschrift
Titel Novel Reactor Design and Method for Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition of Micro and Nano SiO2-x Films in Photovoltaic Applications / Esmail Issa ; Gutachter: Thomas Hannappel, Carsten Ronning ; Betreuer: Edda Rädlein
Person(en) Issa, Esmail (Verfasser)
Rädlein, Edda (Akademischer Betreuer)
Hannappel, Thomas (Gutachter)
Ronning, Carsten (Gutachter)
Verlag Ilmenau : TU Ilmenau
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 2022
Umfang/Format Online-Ressource, 242 Seiten (pdf)
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:gbv:ilm1-2021000505
URL https://www.db-thueringen.de/receive/dbt_mods_00053692 (Verlag) (kostenfrei zugänglich)
Sprache(n) Englisch (eng)
Anmerkungen In: Werkstofftechnik aktuell(26) - ISSN 1868-6532
In: Universitätsverlag Ilmenau, Ilmenau
Schlagwörter Siliciumdioxid ; APCVD-Verfahren ; Chemischer Reaktor ; Dünnschichtsolarzelle ; Herstellung
DDC-Notation 671.735 [DDC23ger]; 681.76 [DDC23ger]
Sachgruppe(n) 670 Industrielle und handwerkliche Fertigung ; 621.3 Elektrotechnik, Elektronik

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