Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
Ergebnis der Suche nach: dcs=620.1*
Treffer 569 von 1862
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1049381114 |
| Art des Inhalts | Hochschulschrift |
| Titel | The effect of Si and Y additives on the phase stability of Al2O3 thin films / Farwah Nahif |
| Person(en) | Nahif, Farwah (Verfasser) |
| Ausgabe | 1. Aufl. |
| Verlag | Aachen : Shaker |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2014 |
| Umfang/Format | Online-Ressource : 12 farb. Ill. (pdf) |
| Andere Ausgabe(n) | Erscheint auch als Druck-Ausgabe: Nahif, Farwah: The effect of Si and Y additives on the phase stability of Al2O3 thin films |
| Hochschulschrift | Zugl.: RWTH Aachen University, Diss., 2013 |
| Persistent Identifier | URN: urn:nbn:de:101:1-201403306548 |
| ISBN/Einband/Preis | 978-3-8440-2495-1 |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Beziehungen | Materials Chemistry ; 2014,23 |
| Anmerkungen | Lizenzpflichtig |
| Schlagwörter | Aluminiumoxide ; Dünne Schicht ; PVD-Verfahren ; Mikrostruktur ; Stabilität ; Silicium ; Yttrium ; Additiv |
| DDC-Notation | 667.9 [DDC22ger]; 620.1404 [DDC22ger] |
| Sachgruppe(n) | 660 Technische Chemie ; 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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