Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/991174607 |
| Art des Inhalts | Hochschulschrift |
| Titel | Entwicklung einer Technologie zur Herstellung eines neuartigen Substrates mit struktuierten vergrabenen Kobaltdisilizidschichten für die gemeinsame Integration bipolarer und unipolarer Bauteile auf einem SOI-Wafer / vorgelegt von: Sven Zimmermann |
| Person(en) | Zimmermann, Sven (Verfasser) |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2007 |
| Umfang/Format | IX, 252 S. : Ill., graph. Darst. ; 31 cm |
| Andere Ausgabe(n) | Erscheint auch als Online-Ausgabe: Zimmermann, Sven: Entwicklung einer Technologie zur Herstellung eines neuartigen Substrates mit strukturierten vergrabenen Kobaltdisilizidschichten für die gemeinsame Integration bipolarer und unipolarer Bauteile auf einem SOI-Wafer |
| Hochschulschrift | Chemnitz, Techn. Univ., Diss., 2007 (Nicht für den Austausch) |
| Sprache(n) | Deutsch (ger) |
| Schlagwörter | PVD-Verfahren ; SOI-Technik |
| DDC-Notation | 621.381520284 [DDC22ger] |
| Sachgruppe(n) | 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau |
| Frankfurt |
Signatur: 2008 B 32223 Bestand: [Dieses Werk gibt es inhaltsgleich auch in digitaler Form.] Bereitstellung in Frankfurt |
| Leipzig |
Signatur: 2008 B 35430 Bestand: [Dieses Werk gibt es inhaltsgleich auch in digitaler Form.] Bereitstellung in Leipzig |
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