Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1389608034 |
| Titel | An Atomistic Picture of Buildup and Degradation Reactions in Area-Selective Atomic Layer Deposition with a Small Molecule Inhibitor / Paul Philipp Wellmann, Fabian Pieck, Ralf Tonner-Zech |
| Person(en) |
Wellmann, Paul Philipp (Verfasser) Pieck, Fabian (Verfasser) Tonner-Zech, Ralf (Verfasser) |
| Verlag | Washington ; D.C. : American Chemical Society - Leipzig : Universitätsbibliothek Leipzig |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2026 |
| Umfang/Format | Online-Ressource |
| Persistent Identifier | URN: urn:nbn:de:bsz:15-qucosa2-1021803 |
| URL | (kostenfrei zugänglich) |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Anmerkungen | In: Chemistry of Materials. 35(15),S. 7343-7361. ISSN: 0897-4756 |
| DDC-Notation | 530.417 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation) |
| Sachgruppe(n) | 530 Physik |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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