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Titel Repetitive Hole‐Mask Colloidal Lithography for the Fabrication of Large‐Area Low‐Cost Plasmonic Multishape Single‐Layer Metasurfaces
Person(en) Zhao, Jun (Verfasser)
Jaber, Sarah (Verfasser)
Mulvaney, Paul (Verfasser)
Braun, Paul V. (Verfasser)
Giessen, Harald (Verfasser)
Umfang/Format Online-Ressource (pdf)
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:101:1-2022112605305985948352
DOI: 10.1002/adom.201400561
URL https://doi.org/10.1002/adom.201400561
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 07.01.2015
Sprache(n) Englisch (eng)
Beziehungen Enthalten in: Advanced optical materials (Bd. 3, 2015, Nr. 5: 680-686. 7 S.)

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