Katalog der Deutschen Nationalbibliothek

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Art des Inhalts Hochschulschrift
Titel Novel reactor design and method for atmospheric pressure chemical vapor deposition of micro and nano SiO₂-x films in photovoltaic applications / Esmail Issa
Person(en) Issa, Esmail (Verfasser)
Organisation(en) Ilmenau Media Services (Verlag)
Verlag Ilmenau : Universitätsverlag Ilmenau
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 2022
Umfang/Format 241 Seiten : Illustrationen ; 22 cm
Hochschulschrift Dissertation, Technische Universität Ilmenau, 2021
ISBN/Einband/Preis 978-3-86360-263-5 Broschur : EUR 25.00 (DE), EUR 25.70 (AT)
3-86360-263-3
EAN 9783863602635
Sprache(n) Englisch (eng)
Beziehungen Werkstofftechnik aktuell ; Band 26
Schlagwörter Siliciumdioxid ; APCVD-Verfahren ; Chemischer Reaktor ; Dünnschichtsolarzelle ; Herstellung
DDC-Notation 671.735 [DDC23ger]; 681.76 [DDC23ger]
Sachgruppe(n) 670 Industrielle und handwerkliche Fertigung ; 621.3 Elektrotechnik, Elektronik
Weiterführende Informationen Inhaltsverzeichnis

Frankfurt Signatur: 2023 AA 1551
Bereitstellung in Frankfurt
Leipzig Signatur: 2023 AA 24223
Bereitstellung in Leipzig




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