Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
Ergebnis der Suche nach: "115845763"
Treffer 7 von 32
|
|
| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1308857462 |
| Titel | Study the effect of high temperature firing process on passivation mechanism of hydrogenated amorphous SiNx:H layers with focus on hydrogen effusion measurements / Sahar Lausch ; Gutachter: Jörg Schilling, Ralf B. Wehrspohn, Johannes Heitmann |
| Person(en) |
Lausch, Sahar (Verfasser) Schilling, Jörg (Gutachter) Wehrspohn, Ralf B. (Gutachter) Heitmann, Johannes (Gutachter) |
| Verlag | Halle (Saale) : Universitäts- und Landesbibliothek Sachsen-Anhalt |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2023 |
| Umfang/Format | Online-Ressource |
| Hochschulschrift | Dissertation, Halle (Saale), Martin-Luther-Universität Halle-Wittenberg, 2023 |
| Persistent Identifier |
URN: urn:nbn:de:gbv:3:4-1981185920-1134732 DOI: 10.25673/111519 |
| URL | (kostenfrei zugänglich) |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Schlagwörter | Silicium* ; Wasserstoff* ; Passivierung* ; PECVD-Verfahren* ; Ladungsträger* ; Rekombination* (*maschinell ermittelt) |
| DDC-Notation | 537.6226 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation) |
| Sachgruppe(n) | 530 Physik |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
Treffer 7 von 32
Administration
